駐村機會

圖片來源：駐村藝術家 魏澤

馬賽雷 2026 公開徵件（Development Residency 2027）

MASEREEL 2026 公開徵件（Development Residency 2027）
截止日期 2026.05.11
結果公告日期 2026 年 9 月中旬通知錄取者
網站 馬賽雷 2026 公開徵件（Development Residency 2027）官網
藝術村介紹 馬賽雷版畫中心
此為 6 週發展型駐村，重點在創作發展、實驗、反思與交流。可使用凹版、凸版、網版、平版、活版，以及 riso、雷射切割、UV 印刷等數位技術；不要求申請者事先具備版畫技術。流程包含前期線上說明、第一週技術介紹、第二至六週獨立創作、第三週 visiting artist 個別會談、第四週中期討論、第五週 visiting curator 個別會談，以及第六週非正式展示。
進駐期間 共三期，每期 6 週：
．2027/4/5–2027/5/14
．2027/8/30–2027/10/8
．2027/10/25–2027/12/3
領域媒材 視覺藝術類
單位提供 提供 6 週住宿、個人 mini-apartment、專業版畫工作室使用、平日技術協助與指導、基礎材料（如 proofing paper、ink 等）、交流與討論活動；伴侶與子女可免費同行。
藝術家自付 參與費 2,500 歐元（含住宿）；另需自付交通、餐食、個人支出、紙張／特殊油墨／銅版等材料，以及數位工作室設備使用費。
申請方式 於公開徵件期間透過官網線上表單申請，申請語言為英文或荷蘭文。需附 artist statement、明確的 artistic proposal、motivation letter、近五年作品集、簡歷；每個附件不得超過 10MB。
審查機制 由 MASEREEL 主任、駐村協調者，以及外部藝術專業人士（如藝術家、策展人等）組成評審委員會審查。評估重點包括作品品質與定位、提案的重要性與迫切性，以及申請動機與此駐村對其創作實踐的加值。
藝術家回饋方案 第 6 週會有非正式成果展示；並需與工作室協調，決定最多 3 件作品納入 MASEREEL 館藏。
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