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國家兩廳院「藝術基地計畫」公開徵選駐館藝術家 | 8.25止
國家兩廳院「藝術基地計畫」公開徵選駐館藝術家 | 8.25止
內容

國家兩廳院(以下簡稱兩廳院)「藝術基地計畫」,冀整合有限的資源,提供國內藝術家發展無限的創意。2016年兩廳院「藝術基地計畫」將公開徵選駐館藝術家,邀請藝術家提出具特質的駐館計畫,於兩廳院駐館創作。

一、目的訴求:發掘並支持極具潛力的創作;探尋國內表演藝術發展的未來。兩廳院期許藝術家發揮無限創意,同時顧及下列四點訴求:

1. 深度探索:以發展全新創作為前提,探索創作主題、素材、方法等。延展作品深度;研發開創性作品。
2. 時代精神:觀察社會現象、時代精神,透過駐館創作回應時代需求,豐富國內的文化養分。
3. 兩廳院品牌:充分應用在地資源、駐館資源,耕植兩廳院國人創作品牌。
4. 交流觸媒:期許駐館創作成為文化交流的最佳觸媒。藝術家和兩廳院透過合作關係推展國際連結,兩廳院並媒合其年度邀請來台之藝術家、策展人與駐館藝術家進行交流。

二、徵選對象:

1. 具中華民國國籍,年齡25歲以上。
2. 申請者須為創作者。不接受二人以上共同申請。
3. 從事過4年以上表演藝術相關工作,且曾公開發表過至少4個以上售票演出/展出之作品。

其他事項請至:國家兩廳院「藝術基地計畫」公開徵選

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