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國美館 2015年科技融藝人才國外駐棧創作 公開徵選至5.20止
國美館 2015年科技融藝人才國外駐棧創作 公開徵選至5.20止
  • 地點:荷蘭V2_動態媒體藝術中心、西班牙LABoral藝術與創意產業中心
  • 截止日期:2015-05-20
  • 領域:新媒體
  • 駐村期間:荷蘭V2_動態媒體藝術中心於2015年7月開始為期約8至10週之駐棧;西班牙LABoral藝術與創意產業中心於2015年9月開始為期8至10週之駐棧
  • 經費補助:交通及簽證費、保險費、創作費、生活費、訓練費、房租
  • 駐村單位提供:無
  • 藝術家自付:其他開銷
  • 官網:
    台灣數位藝術知識與創作流通平台
  • 駐村計畫:
    國美館 2015年科技融藝人才國外駐棧創作 公開徵選
內容

2015年科技融藝人才國外駐棧創作 公開徵選起跑!

一、申請名額及地點:
(一) 名額:2015年補助1-3名(駐棧機構擁有最後決定權,必要時得予從缺)。
(二) 地點:本年度與本館簽約之國外數位藝術機構為:
1.荷蘭V2_動態媒體藝術中心(V2_Institute for the Unstable Media,以下簡稱「V2_」):配合該中心之夏季駐棧計畫(Summer Session),於2015年7月開始為期約8至10週之駐棧。
2.西班牙LABoral藝術與創意產業中心(LABoral Centro de Arte y Creación Industrial):於2015年9月開始為期8至10週之駐棧。

二、申請對象及條件
(一) 具備中華民國國籍,無兵役或其他法律限制出國者。
(二) 以新媒體藝術類為限(含數位藝術、科技藝術、生物藝術等),至申請截止日前持續創作兩年以上, 且曾舉辦個展、聯展或聯合演出者。
(三) 具備英語或所駐棧國之語言溝通能力者(如有外語能力檢定證明請於「申請資料表」中填列)。
(四) 具備與本館簽約之國外數位藝術機構所要求之能力,且創作計畫獲該機構審核同意者。
(五) 申請前往V2_者,另須配合V2_夏季駐棧計畫之規範,申請者須為至申請截止日止年齡未滿35歲,或自學校畢業五年以內者。
(六) 符合前述(一)至(三)項條件,且已獲國外相關機構同意,將於當年度前往該機構駐站創作者,得向本館申請補助全部或部分經費。

三、申請及結果公告時間
(一) 申請時間:自 2015年4月10日至5月20日24時止,一律採線上報名。請至於本網站進行線上報名程序。資料缺件、逾時或與規定不符者不受理。
(二) 結果公告:預定2015年6月公告評選結果。
*上述時間如有更動,將公告於國立臺灣美術館網站。

四、申請方式:請至本網站進行線上報名。如有操作上的問題,請於上班時間電洽本館承辦人員。

五、詳細資訊請至本館官網下載「2015年科技融藝人才國外駐棧創作徵選簡章」。(本頁面下方之附件為「2015年科技融藝人才國外駐棧創作徵選簡章」)

附件

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